抛光时间。要得到好的抛光效果,就需要花费一定的时间。若抛光时间太短,只能获得没有光泽的梨皮状表面。若时间过长,不仅溶解损失增大,抛光剂销售,而且加工表面会出现污点或斑点。因此存在着一个适当的时间范围,它受材料、抛光液的组成及抛光温度等因素的影响,通常难以预测,除用实验测定外,没有其他方法。化学抛光中往往产生氢气,这是抛光具有氢脆敏感性材料时必须注意的问题。另外,抛光剂,抛光液温度---100~200℃时,还会产生退火作用。为了把氢脆和退火作用的影响减小到,就必须在适宜的温度范围内选择尽可能短的抛光时间。
温度。化学抛光时,溶解速度随着抛光液温度的提高而---地增加。此外,强氧化性酸(如浓、等)在高温时氧化作用也会---提高。在化学抛光时,由于这些酸的溶解和氧化作用会同时发生,故多数情况下都是把抛光液加热到较高温度再进行化学抛光。需要提高温度再进行化学抛光的金属有钢铁、镍、铅等,若温度低于某一定值,就会出现无光的腐蚀表面,故存在一个形成光泽面的临界温度,在临界温度以上的一定温度范围内,抛光。而这个温度范围又因溶液组成而异。如果高于这个温度范围,会形成点蚀、局部污点或斑点,抛光剂生产商,使整个抛光效果降低。此外温度越高,金属表面的溶解损失也越大
氧化抛光液氧化抛光液是以微米或亚微米级ceo2为磨料的氧化研磨液,抛光剂价格,该研磨液具有分散性好、粒度细、粒度分布均匀、硬度适中等特点。适用于高精密光学仪器,光学镜头,微晶玻璃基板,晶体表面、集成电路光掩模等方面的精密抛光。氧化铝和碳化硅抛光液是以超细氧化铝和碳化硅微粉为磨料的抛光液,主要成分是微米或亚微米级的磨料。主要用于高精密光学仪器、硬盘基板、磁头、陶瓷、光纤连接器等方面的研磨和抛光。
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