氧化抛光液氧化抛光液是以微米或亚微米级ceo2为磨料的氧化研磨液,该研磨液具有分散性好、粒度细、粒度分布均匀、硬度适中等特点。适用于高精密光学仪器,光学镜头,微晶玻璃基板,晶体表面、集成电路光掩模等方面的精密抛光。氧化铝和碳化硅抛光液是以超细氧化铝和碳化硅微粉为磨料的抛光液,主要成分是微米或亚微米级的磨料。主要用于高精密光学仪器、硬盘基板、磁头、陶瓷、光纤连接器等方面的研磨和抛光。
电化学抛光原理电化学抛光也称电解抛光。电解抛光是以被抛工件为阳极,不溶性金属为阴极,两极同时浸入到电解槽中,通以直流电而产生有选择性的阳极溶解,从而使工件表面光亮度增大,达到镜面效果。
工艺流程化学(或电化学)除油***热水洗***流动水洗***除锈(10%---)***流动水洗***化学抛光***流动水洗***中和***流动水洗***转入下道表面处理工序工作环境:传统抛光工艺工作环境---,抛光过程中产生沙粒,铁屑,粉尘等,---污染环境;.加工效率:人工抛光;豪克能工艺属于以车代磨,抛光剂厂家,线速度可达50-80 m/min,抛光剂生产商,进给量可达0.2-0.5mm/r,舟山抛光剂,相当于半精车的效率。铺料消耗:抛光需要消耗抛光轮、磨料、砂带等辅料;适应性:抛光可以加工平面等简单的型面,对于曲面无法加工。如果加工r弧,曲面等复杂型面,可采用豪克能抛光工艺。
阳极氧化铝板化学抛光中出现的缺陷及其纠正措施是在生产的发展过程中不断总结完善的。 光亮度不足。这是化学抛光中较关心的事情。光亮度没有达到预期的目标,其原因可从特殊铝材的生产工艺和化学抛光工艺这两方面分析。有关特殊铝材的生产工艺已经有详细的论述。建议采用铝纯度99.70%及其以上级别的铝锭,来生产特殊铝材;铝材加工工艺中控制为化学抛光得到高光亮度表面奠定基础。化学抛光后,具有---的光亮度。槽液控制中含量不足,会使表面光亮度不足,其表面可能过多地附着一层铜;含量太高,铝材表面形成彩虹膜,会使表面模糊或不透明,还引起光亮度不足;化学抛光时间不足,温度不够,抛光剂,搅拌不充分,槽液老化等也会使化学抛光表面光亮度不足。槽液的相对密度较大,防止铝材浮出抛光槽液的液面,致使上部铝材光亮度不足。水的影响造成光亮度不足,往往容易被忽视。较---干燥的铝材进入化学抛光槽液,杜绝水分的带入。
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