泉州两酸抛光-昆山韩铝化学表面-两酸抛光

多晶金刚石抛光液多晶金刚石抛光液以多晶金刚石微粉为主要成分，配合高分散性配方，泉州两酸抛光，可以在保持高切削率的同时不易对研磨材质产生划伤。主要应用于蓝宝石衬底的研磨、led芯片的背部减薄、光学晶体以及硬盘磁头等的研磨和抛光。氧化硅抛光液氧化硅抛光液（cmp抛光液）是以高纯硅粉为原料，两酸抛光 公司，经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品。广泛用于多种材料纳米级的高平坦化抛光，如：硅晶圆片、锗片、化合物半导体材料、磷化铟，精密光学器件、蓝宝石片等的抛光加工。

铝化学抛光技术?

一、对铝制品表面进行机械抛光：bbs.cnal.com5?z4?n6?t#?]:?n8?p，?f3?^

1、机械抛光工序为：粗磨、细磨、抛光、抛亮、喷砂、刷光或滚光等，根据制表面的粗糙程度来适当采取不同的工序。???二、化学除油除膜：6?z，?r1?d3?w;?%?r1?w

化学除油除膜过程是借着化学反应和物理化学作用，除去制件表面的油污和自然氧化膜。化学除油除膜一般采用酸性除油除膜剂ac。:?b#?^#?﹨4??;?b7?s2???使用条件：?

1、浓度：2-7%6?d2?x)?r*?m??g8?m

2、工艺条件：?温度：20-30℃?时间：2-10min???酸洗液的配方：铝业论坛$?v:?n?e?^2?h8?l8?n3?c

浓硝液200~270ml/l铝业论坛;?j?{&?[%?x-?b5?d

温度：室温时间：1-3min?

除去含合金制件表面氧化膜和硅浮灰的酸洗液配方：9?r9?f9?g9?r8?~9?p?i

浓3体积；浓1体积。???温度：室温?时间：5-15min:?r7?t0?_-?a+?m1?h0?u

铝及铝合金制件经化学酸洗后，必须立即用流动温水和冷水清洗，以除去残酸，然后浸入水中，以备化学抛光。