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    2022-7-9

王总
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化学抛光是靠化学试剂的化学浸蚀作用对样品表面凹凸不平区域的选择性溶解作用消除磨痕、浸蚀整平的一种方法。化学抛光设备简单,能够处理细管、带有深孔及形状复杂的零件,生产。化学抛光可作为电镀预处理工序,也可在抛光后辅助以---的防护措施直接使用。为了进行化学抛光,莆田化拋剂,必须使零件表面的凸部比凹部优先溶解,因此应将化学抛光的作用分为两个阶段来认识。阶段是化学抛光时金属表面现象的几何凸凹的整平,去除较粗糙的表面不平度,获得平均为数微米到数十微米的光洁度;第二阶段是晶界附近的结晶不完整部分的平滑化,去除微小的不平,在0.1~0.01μm,相当于光波长的范围。可将阶段称为宏观抛光或平滑化,把第二阶段称为微观抛光或光泽化。








优点化学抛光的优点是化学抛光设备简单,化拋剂价格,不需要什么特殊设备,只需要一个盛抛光液的玻璃杯和夹持试样的夹子就可以了。如果用细薄磨料片切割的试样,切割后不需要砂纸磨光,即可直接抛光。有些非导体材料也可以用化学抛光,非导体嵌镶的试样也可以直接抛光。化学抛光也可以处理形状比较复杂的零件

缺点1、化学抛光的不如电解抛光。2、化学抛光所用溶液的调整和再生比较困难,化拋剂,在应用上受到---。3、化学抛光操作过程中,散发出大量黄棕色有害气体,对环境污染非常---。4、抛光溶液的使用寿命短,溶液浓度的调节和再生比较困难





氧化抛光液氧化抛光液是以微米或亚微米级ceo2为磨料的氧化研磨液,该研磨液具有分散性好、粒度细、粒度分布均匀、硬度适中等特点。适用于高精密光学仪器,光学镜头,微晶玻璃基板,晶体表面、集成电路光掩模等方面的精密抛光。氧化铝和碳化硅抛光液是以超细氧化铝和碳化硅微粉为磨料的抛光液,主要成分是微米或亚微米级的磨料。主要用于高精密光学仪器、硬盘基板、磁头、陶瓷、光纤连接器等方面的研磨和抛光。




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