铝合金产品传统的三酸抛光的化学工艺配方为：磷酸80%，---10%，10%。目前磷酸的价格为5400元/吨，---700元/吨，2300元/吨（以上价格仅作为参考）。那么我们传统的配方成本为：磷酸800ml*1.70*5.40=7.344元，---100ml*1.84*0.7=0.13元，100ml*1.40*2.30=0.32元，那么一升抛光液合计的成本为7.8元。目前我公司研制成功的oy系列铝处理化学抛光工艺，两酸抛光 公司，磷酸为500ml/l，---500ml/l，南京两酸抛光，光亮剂20ml/l， 成本核算为：500ml*1.70*5.40=4.59元；---500*1.84*0.7=0.644;光亮剂计0.65元，合计5.85元。因此，两酸抛光厂家，我公司oy系列铝处理工艺，成本足足下降了20%。而且oy系列产品在处理铝的时候，无任何黄烟，---的---了生产环境；处理成品率可以在到98%以上，几乎无因为抛光而造成的报废品；光亮度好，与三酸处理无异；维护管理容易，溶液性能稳定。因此，我公司极力使用本产品。
依据机械加工原理、半导体材料工程学、物力化学多相反应多相催化理论、表面工程学、半导体化学基础理论等，对硅单晶片化学机械抛光（cmp）机理、动力学控制过程和影响因素研究标明，化学机械抛光是一个复杂的多相反应，它存在着两个动力学过程：（1）抛光首先使吸附在抛光布上的抛光液中的氧化剂、催化剂等与衬底片表面的硅原子在表面进行氧化还原的动力学过程。这是化学反应的主体。（2）抛光表面反应物脱离硅单晶表面，即解吸过程使未反应的硅单晶重新出来的动力学过程。它是控制抛---率的另一个重要过程。硅片的化学机械抛光过程是以化学反应为主的机械抛光过程，要获得---的抛光片，必须使抛光过程中的化学腐蚀作用与机械磨削作用达到一种平衡。如果化学腐蚀作用大于机械抛光作用，则抛光片表面产生腐蚀坑、桔皮状波纹。如果机械磨削作用大于化学腐蚀作用，两酸抛光，则表面产生高损伤层。
随着意识及法规的加强，目前越来越多的工厂选择两酸抛光工艺。但是两酸在3c产品生产过程中存在以下问题：1.当抛光液中铝离子浓度超过16g/l时，抛光带有通孔或盲孔的喷砂工件时会产生抛痕，尤其当喷砂工件为al5252材质的铝合金时抛痕更为明显。2.对经t处理的铝塑复合件抛光时铝塑交界处易出现不均匀，塑料件易发黄。3.铝合金工件在自动抛光线上抛光时在工件转移过程中所需时间通常在18秒以上，铝型材化抛生产线转移所花的时间更长通常在30秒以上，在转移过程中由于抛光液的滴趟会在表面形成不规则的流痕，影响外观效果。
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